科技经济导刊

2018, v.26;No.659(33) 47-48

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对涂胶显影机与光刻机内联控制的研究

王绍勇;黄琳琳;

摘要(Abstract):

光刻工艺是集成电路制造(前道)过程中的重要环节。在集成电路制造过程中,通常将涂胶显影机与光刻机相连接,进行一体化加工。目前,国产涂胶显影机与光刻机的内联控制在技术资料等资源方面相对匮乏,从机械接口形式、通信协议、调度、故障处理等方面综合分析研究。

关键词(KeyWords): 光刻机;涂胶显影机;内联

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 沈阳市重大共性关键技术创新专项(17-92-0-00)

作者(Author): 王绍勇;黄琳琳;

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